Наименование:
Отходы производства диодов, транзисторов и прочих полупроводниковых приборов, включая светоизлучающие диоды, пьезоэлектрические приборы и их части
Иерархия: Подгруппа
Расшифровка кода:
3 71 112 00 00 0
3
Номер блока ФККО
- 3 - Промышленность в сфере обработки
71 112 00
Код происхождения вида отходов и их состава
- 30000000000 - ОТХОДЫ ОБРАБАТЫВАЮЩИХ ПРОИЗВОДСТВ
-     37000000000 - ОТХОДЫ ПРОИЗВОДСТВА МАШИН И ОБОРУДОВАНИЯ
-         37100000000 - Отходы производства компьютеров, электронных и оптических изделий
-             37110000000 - Отходы производства элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)
-                 37111000000 - Отходы производства элементов электронной аппаратуры
-                     37111200000 - Отходы производства диодов, транзисторов и прочих полупроводниковых приборов, включая светоизлучающие диоды, пьезоэлектрические приборы и их части
Содержит в своем составе:
Код
Наименование
37111231394
отходы механической обработки кварца при изготовлении изделий пьезоэлектроники, содержащие нефтепродукты (содержание нефтепродуктов менее 10%)
37111235204
отходы серебра при металлизации поверхности изделий пьезоэлектроники
37111241602
отходы текстильных изделий из хлопчатобумажного волокна, загрязненных мышьяком при ионном легировании в производстве базовых матричных кристаллов
37111251103
воды, содержащие галогенированные растворители, при промывке пьезоэлементов
37111252103
растворители нефтяного происхождения, загрязненные фоторезистом при промывке керамических диэлектриков
37111253102
отходы ацетона, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов
37111254102
отходы смеси диметилформамида и моноэтаноламина, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов
37111255103
диметилформамид обводненный, загрязненный фоторезистом при обезжиривании и промывке поверхности полупроводниковых пластин и удалении фоторезиста
37111256103
отходы смеси ацетона, изопропилового спирта, диметилформамида, загрязненные фоторезистом при отмывке пластин и оснастки в производстве полупроводниковых материалов